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机译:用于侧壁损伤散射法的等离子体损伤低k电介质的紫外光学性质的变化
Marsik Premysl; Urbanowicz Adam; Vinocur Klara; Cohen Y.; Baklanov Mikhail;
机译:使用线间介电电容测量分析低k膜中的侧壁损伤层
机译:图案化低k电介质的等效电侧壁损伤
机译:紫外线固化波长对低k介电材料性能和抗等离子体损伤的影响
机译:等离子体与低k电介质的相互作用:基本破坏和保护机制。
机译:在−50°C以上的条件下使用微毛细管冷凝对多孔有机硅低k进行无损等离子体刻蚀
机译:侧壁损伤散射散射率等离子体损坏低k电介质的UV光学性能的变化
机译:等离子体处理和修复工艺可减少低k电介质的侧壁损坏
机译:减少低介电常数侧壁损伤的等离子体处理和修复工艺
机译:紫外辅助光化学沉积对等离子体损伤的低k薄膜的介电回收
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