机译:He / H-2下游等离子体修饰的等离子体增强化学气相沉积SiCOH低k薄膜的纳米压痕研究
机译:He / H_2下游等离子体中修饰的等离子体增强化学气相沉积SiCOH low-k薄膜的纳米压痕研究
机译:He / H2下游等离子体中修饰的等离子体增强化学气相沉积SiCOH low-k薄膜的纳米压痕研究
机译:通过等离子体增强的四(三甲基甲硅烷基甲硅烷基)硅烷前体制备柔性低k电介质SiCOH薄膜的柔性低k电介质SiCOH薄膜
机译:等离子体功率和沉积压力对等离子体增强化学气相沉积沉积的低介电常数等离子体聚合环己烷薄膜的影响
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积和等离子体浸没离子注入和沉积获得的非晶态碳质薄膜的光学,机械和表面特性
机译:用电子束生成等离子体的等离子体增强化学气相沉积siOx薄膜