首页> 外文OA文献 >Effect of UV-wavelength on Hardening Process of Porogen-containing and Porogen-free Ultra-low-k PECVD Glasses

【2h】

Effect of UV-wavelength on Hardening Process of Porogen-containing and Porogen-free Ultra-low-k PECVD Glasses

机译：紫外线波长对含多孔和无多孔超低k PECVD玻璃硬化过程的影响

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

摘要
著录项
引文网络
相似文献
相关主题

摘要

http://www2.avs.org/symposium/AVS57/pdfs/techprog.pdf

机译：HTTP://呜呜呜2.AVS.org/symposium/AVS57/PDF是/tech pro国.PDF

著录项

作者
Urbanowicz Adam; Vanstreels Kris; Verdonck Patrick; Van Besien Els; De Gendt Stefan; Baklanov Mikhail;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2010
总页数
原文格式 PDF
正文语种 en
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Effect of UV wavelength on the hardening process of porogen-containing and porogen-free ultralow-fr plasma-enhanced chemical vapor deposition dielectrics [J] . Adam M. Urbanowicz, Kris Vanstreels, Patrick Verdonck, Journal of Vacuum Science & Technology . 2011,第3期

机译：紫外线波长对含成孔剂和不含成孔剂的超低fr等离子体增强化学气相沉积电介质硬化过程的影响
2. Effect of thermal treatment on physical, electrical properties and reliability of porogen-containing and porogen-free ultralow-k dielectrics [J] . Yu-Min Chang, Wei-Yuan Chang, Jun-Fu Huang, Thin Solid Films . 2013,第JANa15期

机译：热处理对含成孔剂和无成孔剂的超低k电介质的物理，电性能和可靠性的影响
3. Theoretical investigation of in situ k-restore processes for damaged ultra-low-k dielectrics [J] . Foerster Anja, Wagner Christian, Schuster Jorg, Microelectronic Engineering . 2016,第Apra期

机译：受损的超低k电介质原位k恢复过程的理论研究
4. Molecular design of ultra-low-k hybrid glasses [C] . Oliver Mark, Dubois Geraud, Dauskardt Reinhold International Interconnect Technology Conference . 2010

机译：超低k杂化玻璃的分子设计
5. Characterization of the solubility, electrical behavior and stress state of undoped and boric oxide/phosphorus oxide-doped, as-deposited and annealed PECVD germanosilicate glasses. [D] . Croswell, Robert Thomas. 1998

机译：掺杂和未掺杂氧化硼/氧化磷，沉积和退火的PECVD锗硅酸盐玻璃的溶解度，电性能和应力状态的表征。
6. Work-Hardening Induced Tensile Ductility of Bulk Metallic Glasses via High-Pressure Torsion [O] . Soo-Hyun Joo, Dong-Hai Pi, Albertus Deny Heri Setyawan, -1

机译：高压扭转作用下的工作硬化引起的大块金属玻璃的拉伸延展性
7. Theoretical investigation of an in situ k-restore process for damaged ultra-low-k materials based on plasma enhanced fragmentation [O] . Förster, A., Wagner, C., Gemming, S., 2017

机译：受损土壤原位k恢复过程的理论研究基于等离子体增强碎裂的超低k材料

Effect of UV-wavelength on Hardening Process of Porogen-containing and Porogen-free Ultra-low-k PECVD Glasses

摘要

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅