机译:漏极偏置为28 nm的高K金属栅极p-MOSFET器件对负偏置温度不稳定性下降的新见解
机译:关于p-MOSFET器件中负偏置温度不稳定性的永久成分分析
机译:具有Hf_xZr_(1-x)O_2和HfO_2 /金属栅叠层的p-MOSFET在动态负偏置应力和负偏置温度不稳定性之后的异常栅极电流驼峰
机译:负偏置温度不稳定性导致p-MOSFET器件的安全工作条件和寿命估算
机译:SiGe PMOS器件上的总电离剂量辐射效应和负偏置温度不稳定性
机译:通过扫描探针测温法对正在运行的纳米级设备进行温度映射
机译:衬底偏置对p-MOSFET负偏置温度不稳定性的影响