机译:出版商注:“3 GHz RF测量从硅基板转移到单晶金刚石上的AlGaN / GaN晶体管”AIP ADV。 9,125106(2019)
机译:出版商注:“3 GHz RF测量从硅基板转移到单晶金刚石上的AlGaN / GaN晶体管”[AIP ADV。 9,125106(2019)]
机译:3 GHz RF测量AlGaN / GaN晶体管从硅基板转移到单晶金刚石上
机译:发行人注释:“通过室温瞬态电容测量表征AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的陷阱行为” [AIP Advances 6,6,095021(2016)]
机译:通过范德华力将AlGaN / GaN RF器件转移到金刚石衬底上
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:使用不同缓冲层配置的200mm硅(111)衬底上的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管结构研究
机译:3 GHz RF测量AlGaN / GaN晶体管从硅基板转移到单晶金刚石上