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机译:使用随机步行方法观察障碍胶片中的空隙形成图案
Zhi Jin; Yu-An Shen; Yang Zuo; Y. C. Chan; S. H. Mannan; Hiroshi Nishikawa;
机译:模拟电迁移对单晶银膜中空隙的影响
机译:电迁移下金属薄膜与电介质界面上空洞迁移的三维模拟
机译:金属薄膜中形态稳定的空隙的电迁移驱动运动:迁移速度随空隙大小的普遍变化
机译:由于3D X射线的焊料Microbump中的电迁移而非破坏性观察空隙形成
机译:二嵌段共聚物薄膜中定向自组装方法的数值模拟,用于高范围阶的纳米级图案的高效制造
机译:基于离散空隙形成的倒装芯片焊点失效的电迁移机理
机译:薄合金薄膜中的电动迁移引导的组合物图案:计算研究
机译:膜形成材料,用于光刻的膜形成组合物,用于光学成分形成的材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感组合物,用于制造非晶膜,膜的材料,基底膜用于光刻的底层膜形成,用于光刻的底层膜的制造方法以及电路图案形成方法
机译:使用提供关于通过光学光刻法转印到晶片的预定掩模图案的转印图案信息的仿真系统的仿真方法以及修改掩模图案的方法
机译:墨膜形成用原版,不均匀图案形成方法,图案膜形成方法和图案膜形成装置
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