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【2h】

Stochastic simulation and calibration of organometallic photoresists for extreme ultraviolet lithography

机译：用于极端紫外光刻的有机金属光致抗蚀剂的随机仿真与校准

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Zelalem Belete; Peter De Bisschop; Ulrich Welling; Andreas Erdmann;
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年度 2021
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