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【2h】

Deposition profile of ammonium bromide in N2/HBr plasmas for high-aspect-ratio multilayer etching

机译：高纵横比多层蚀刻中N2 / HBR等离子体中溴化铵的沉积谱

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Taku Iwase; Naoyuki Kofuji; Kenetsu Yokogawa; Masahito Mori;
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年度 2019
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