机译:抵抗PMMA中二次电子激发的蒙特卡罗模拟
机译:电子束直径,电子能量,抗蚀剂厚度和抗蚀剂类型的依赖关系,通过使用蒙特卡洛模拟在EB光刻中形成纳米点阵。
机译:PMMA中质子束产生的二次电子能量沉积的模拟:目标电子激发描述的影响
机译:电子束光刻中有机和无机抗蚀剂的蒙特卡罗模拟比较
机译:通过基于Monte Carlo粒子的器件仿真对GaN高电子迁移率晶体管和热电子晶体管进行建模和设计。
机译:使用并行化的蒙特卡洛模拟对VMAT进行辅助监视单元计算
机译:电子激发能传递机制的蒙特卡洛模拟:静态抑制发光的Perrin模型:电子激发能传递的蒙特卡洛模拟:静态发光猝灭的Perrin模型