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机译:正音纳米粒子光致抗蚀剂:新洞察图案化机制
Mufei Yu; Hong Xu; Vasiliki Kosma; Jeremy Odent; Kazuki Kasahara; Emmanuel Giannelis; Christopher Ober;
机译:正色调纳米光致抗蚀剂:构图机理的新见解。
机译:由多官能丙烯酸酯树脂组成的正色调光致抗蚀剂,其可在光交联后图案化
机译:氧化物纳米粒子EUV可以抵抗:了解正负色调图案形成的机理
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:纤维素的光刻图案:适用于高级应用的多功能双色调光刻胶
机译:氧化物纳米粒子EUV(一种)光致抗蚀剂:目前对不寻常的图案形成机理的理解
机译:正光致抗蚀剂组合物,使用相同的光致抗蚀剂图案,以及光致抗蚀剂图案的制造方法
机译:正性光致抗蚀剂组成,使用相同的光致抗蚀剂图案以及光致抗蚀剂图案的制造方法
机译:用于制造系统LCD的正性光致抗蚀剂组合物,正性光致抗蚀剂的制造方法和抗蚀剂图案的形成方法
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