Study of EB Resist Simulation for EUV Resist Evaluation

机译：EUV抗蚀剂评估EB抗蚀剂仿真研究

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Yosuke Ohta; Atsushi Sekiguchi; Anja Voigt; Nit Taksatorn;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2020
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Study of EB Resist Simulation for EUV Resist Evaluation [J] . Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Anja Voigt, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2020,第2期

机译：EUV抗蚀剂评估EB抗蚀剂仿真研究
2. PAG Study of PAG Bonded Resist for EUV and EB Lithography [J] . Yasuyuki Fukushima, Takeo Watanabe, Ryuji Ohnishi Journal of Photopolymer Science and Technology . 2008,第4期

机译：用于EUV和EB光刻的PAG胶粘剂的PAG研究
3. Groundwater Evaluation Study Using Electrical Resistivity Measurements in Bunza Area of Kebbi State, Nigeria [J] . Umar A. B., Ladan B., Gado A. A. International Journal of Environment and Bioenergy . 2017,第2期

机译：尼日利亚基比州邦扎地区使用电阻率测量进行的地下水评估研究
4. Evaluation of vacancies in positive-tone non-chemically and chemically amplified EUV / EB resists: Relationship between free-volume and LER [C] . Akihiro Oshima, Toru Hinata, Hirotaka Nakamura, Advances in Patterning Materials and Processes XXXI . 2014

机译：评价非化学和化学放大的EUV / EB抗蚀剂中的阳性空位：自由体积和LER之间的关系
5. Surface chemistry study of gallium arsenide wafers during chemically amplified resist patterning and resist studies with fluorescence. [D] . Lu, Bing. 2000

机译：砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行，并通过荧光进行抗蚀剂研究。
6. High Sensitivity Resists for EUV Lithography: A Review of Material Design Strategies and Performance Results [O] . Theodore Manouras, Panagiotis Argitis 2020

机译：高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性：材料设计策略和绩效结果综述
7. PAG Study of PAG Bonded Resist for EUV and EB Lithography [O] . Yasuyuki Fukushima, Takeo Watanab, Ryuji Ohnishi, 2008

机译：EUV和EB光刻PAG粘结抗蚀剂的PAG研究

Study of EB Resist Simulation for EUV Resist Evaluation

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅