机译:29Si-19F耦合常数在四氟化硅中的溶剂依赖性。分子间分散相互作用的重要性
机译:气态四氟化硅和六氟二硅氧烷中的19F和29Si核磁屏蔽和自旋旋转耦合常数
机译:基于非经验纯DFT框架中的1H-X旋转旋转耦合常数的基础设定依赖性,X = 1H,13C,19F,35CL:CHCl = CH-CF3立体异构体的情况
机译:氟化硅富勒烯Si_nF_n(n≤60)中电子结构以及19F和29Si化学屏蔽张量的计算研究
机译:中子辐照的硅中两个顺磁中心的29 29Si超精细相互作用
机译:核磁共振研究:第一部分。Fluorine-19自旋-自旋耦合常数。第二部分溶剂对Fluorine-19自旋偶联常数的影响
机译:对甲苯磺酸掺杂聚苯胺的光学恒定参数及其复合材料对分散溶剂的依赖性
机译:溶剂对1-氯-1-氟乙烯的质子化学换档和H-H,H-F耦合常数的影响。反应场和分散相互作用
机译:CTpO中超精细耦合常数的溶剂和温度依赖性