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机译:模塑掩模方法:纳米压印光刻的起源
Susumu Fujimori;
机译:模压掩模法:纳米压印光刻技术的起源
机译:1970年代通过模制掩模法(纳米压印光刻法)精制图案
机译:EB光刻技术制造单纳米纳米压印掩模,然后进行纳米压印和自对准双图案
机译:用于纳米压印光刻的新型模具制造方法以及纳米结构在光学和电子领域的一些应用。
机译:图案化丝素蛋白模具在室温下通过纳米压印光刻法制备有序块状异质结太阳能电池
机译:方法用于纳米压印光刻掩模制造方法掩模纳米压印光刻
机译:纳米压印光刻技术的面膜校正方法以及纳米压印光刻技术的面膜制造方法
机译:表面处理方法,使用该方法制造近场曝光掩模的方法,近场曝光掩模和纳米压印术的掩模
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