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【2h】

Advanced Poly-Si NMIS and Poly-Si/TiN PMIS Hybrid-Gate High-k CMIS using PVD/CVD-Stacked TiN and Local Strain Technique

机译：使用PVD / CVD堆叠锡和局部应变技术先进的Poly-Si NMIS和Poly-Si / TiN PMIS Hybrid-KCMIS

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Y. Nishida; T. Kawahara; S. Sakashita; M. Mizutani; S. Yamanari; M. Higashi; N. Murata; M. Inoue; J. Yugami; S. Endo; T. Hayashi; T. Yamashita; H. Oda; Y. Inoue;
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年度 2007
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