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Residual Stress in Silicon Substrate with Shallow Trenches on Surface after Local Thermal Oxidation

机译：局部热氧化后表面浅沟槽硅衬底的残余应力

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作者
Hideo Miura; Naoto Saito; Hiroyuki Ohta; Noriaki Okamoto;
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作者单位

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年度 1995
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