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机译:克里普顿/三甲基硼钨气氛中钨靶的反应磁控溅射
Martin Magnuson; Lina Tengdelius; Fredrik Eriksson; Mattias Samuelsson; Esteban Broitman; Grzegorz Greczynski; Lars Hultman; Hans Högberg;
机译:k /三甲基硼气氛中钨靶的反应磁控溅射
机译:磁控溅射从铜,铟和钨靶中溅射出Ar / h_2s时基体上的离子能量分布
机译:通过在Ar:H2Se气氛中从金属靶材共溅射反应磁控溅射制备的高效Cu(In,Ga)Se-2太阳能电池
机译:在反应性氧和/或氮气氛中的铌靶的脉冲功率磁控溅射
机译:溅射靶腐蚀及其对长时间直流磁控溅射镀膜的影响
机译:N2分压对液靶反应磁控溅射外延沉积GaN纳米棒生长结构和光学性能的影响
机译:活性磁控溅射钨氧化物薄膜的结构,光学和发光性能
机译:用于通过磁控管的靶涂覆基板的反应磁控溅射,包括:将与磁控管相对的基板布置;通过溅射雾化靶材料;以及将溅射的靶材料沉积到基板上
机译:用于直流磁控反应溅射的溅射靶,利用该靶形成薄层的方法以及具有通过该方法形成的层的光盘
机译:直流磁控反应溅射的溅射靶,利用该靶形成薄层的过程,以及具有该过程形成的层的光碟
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