机译:来自四甲基二硅氮烷源的碳氮化硅薄膜的远程氢微波等离子体CVD。第2部分:膜特性的组成和结构依赖性
机译:来自四甲基二硅氮烷源的碳氮化硅薄膜的远程氢微波等离子体CVD。第1部分:薄膜的工艺和结构表征
机译:利用注入液体源通过准分子灯辅助的光诱导CVD在硅上沉积的五氧化二钽电介质膜的特性。
机译:在表面波等离子体CVD设备中用于高质量金刚石膜沉积的最佳等离子体生成
机译:Penning表面等离子体负氢离子源的VUV吸收光谱。
机译:巨噬菌体ϕKZ的发展独立于宿主转录仪。
机译:开发用于半导体薄膜的远程线源等离子体CVD设备并利用相关技术开拓新业务
机译:潘宁表面 - 等离子体源中的H(sup(负))温度依赖性。