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【2h】

Thermomechanical Response Analysis of Lithographic Mask Structure Using Finite Element Method

机译：使用有限元法的光刻掩模结构热机械响应分析

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作者
Dz-Chi Li; Shiang-Woei Chyuan; Jeng-Tzong Chen; Cherng-Yuan Sun;
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年度 1995
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2. Thermomechanical Response Analysis of Lithographic Mask Structure Using Finite Element Method [J] . Dz-Chi LI, Shiang-Woei CHYUAN, Jeng-Tzong CHEN, JSME International Journal. Series A, Solid mechanics and material engineering . 1995,第4期

机译：光刻掩模结构热力学响应的有限元分析
3. Thermomechanical Response Analysis of Lithographic Mask Structure Using Finite Element Method [J] . Dz-Chi LI, Shiang-Woei CHYUAN, Jeng-Tzong CHEN, JSME International Journal. Series A, Solid mechanics and material engineering . 1995,第4期

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