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【2h】

Characterization of Si1-xCx:H thin films deposited by PECVD for SiCOI heterojuntion fabrication

机译：Si1-XCX的表征：PECVD用于SiCOI异质杂交制造的H薄膜

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Neisy A. E. Forhan; Márcia C. A. Fantini; Inés Pereyra;
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年度 2006
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