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A Study on Electrochemical Machining Method in Ultrapure Water. First-Principles Molecular-Dynamics Simulations for Etching Process of Hydrogen-Terminated Si(001) Surface by Hydroxyl Ions.

机译：超纯水电化学加工方法研究。通过羟基离子蚀刻氢封端Si（001）表面的蚀刻方法的第一原理分子动力学模拟。

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Yuzo MORI; Hidekazu GOTO; Kikuzi HIROSE; Itsuki KOBATA; Yasushi TOMA;
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年度 2001
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