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A Study on Electrochemical Machining Method in Ultrapure Water. First-Principles Molecular-Dynamics Simulations for Etching Process of Si(001) Cathode Surface.

机译：超纯水电化学加工方法研究。 Si（001）阴极表面蚀刻过程的第一原理分子动力学模拟。

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Hidekazu GOTO; Kikuji HIROSE; Itsuki KOBATA; Yasushi TOMA; Yuzo MORI;
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年度 2001
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