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【2h】

Lithography for robust and editable atomic-scale silicon devices and memories

机译：鲁棒和可编辑原子级硅装置和记忆的光刻

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作者
Roshan Achal; Mohammad Rashidi; Jeremiah Croshaw; David Churchill; Marco Taucer; Taleana Huff; Martin Cloutier; Jason Pitters; Robert A. Wolkow;
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作者单位

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年度 2018
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1. Lithography for robust and editable atomic-scale silicon devices and memories [J] . Roshan Achal, Mohammad Rashidi, Jeremiah Croshaw, Nature Communications . 2018,第1期

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2. Memory characteristics of silicon nitride with silicon nanocrystals as a charge trapping layer of nonvolatile memory devices [J] . Sangmoo Choi, Hyundeok Yang, Man Chang, Applied Physics Letters . 2005,第25期

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4. Lithography simulation for the fabrication of silicon photonic devices with deep-ultraviolet lithography [C] . Wang Xu, Shi Wei, Hochberg Michael, 2012 IEEE 9th International Conference on Group IV Photonics. . 2012

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