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【2h】

Dynamical Low-energy Electron Diffraction Analyses of Clean and H-adsorbed Ir(111) Surfaces

机译：清洁和H吸附IR（111）表面的动态低能电子衍射分析

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作者
Masuaki MATSUMOTO; Syohei OGURA; Katsuyuki FUKUTANI; Tatsuo OKANO; Michio OKADA;
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作者单位

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年度 2006
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1. Structural analysis of clean LaB_6(100), (111), and (110) surfaces via quantitative low-energy electron diffraction [J] . Noguchi Akio, Takamura Yu, Nakagawa Takeshi, Surface Science . 2020,第Nova期

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2. Electronic Structure of Clean and H-adsorbed HfC(111) Surface [J] . Masahiro Yamazaki, Ken-ichi Ozawa, Kazuyuki Edamoto, 表面科学 . 2001,第7期

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3. Electronic Structure of Clean and H-adsorbed HfC(111) Surface [J] . Masahiro YAMAZAKI, Ken-ichi OZAWA, Kazuyuki EDAMOTO 表面科学 . 2001,第7期

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4. Sulfur cleaning for (100), (111)A, and (111)B InGaAs surfaces with In content of 0.53 and 0.70 and their Al2O3/InGaAs MOS interface properties [C] . Yokoyama Masafumi, Taoka Noriyuki, Suzuki Rena, 2012 International Conference on Indium Phosphide and Related Materials. . 2012

机译：In含量为0.53和0.70的（100），（111）A和（111）B InGaAs表面的硫清洗及其Al2O3 / InGaAs MOS界面特性
5. The growth of epitaxial iron oxides on platinum (111) as studied by x-ray photoelectron diffraction, scanning tunneling microscopy, and low-energy electron diffraction. [D] . Kim, Yong-Joo. 1995

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7. Electronic Structure of Clean and H-adsorbed HfC(111) Surface. [O] . Masahiro YAMAZAKI, Ken-ichi OZAWA, Kazuyuki EDAMOTO, 2001

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8. Low-Energy Electron Diffraction, Auger Electron Spectroscopy and Thermal Desorption Studies of Chemisorbed CO and O2 on the (111) and Stepped (6(111)x(100)) Iridium Surfaces. [R] . Hagen, D. I., Nieuwenhuys, B. E., Rovida, G., 1976

机译：化学吸附CO和O2在（111）和阶梯（6（111）x（100））铱表面上的低能电子衍射，俄歇电子能谱和热解吸研究。

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