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机译:特刊:钻石薄膜。化学气相沉积金刚石表面的H-吸附。
Toshihiro ANDO; Takashi AIZAWA; Mutsukazu KAMO; Yoichiro SATO;
机译:用于表面导电设备应用的热丝化学气相沉积金刚石上的金刚石生长
机译:化学气相沉积金刚石薄膜的ECR等离子蚀刻
机译:化学气相沉积金刚石和类金刚石碳膜中的场发射传导机理
机译:化学气相沉积硼掺杂金刚石表面中IB族金属的电化学相互作用
机译:界面改性会影响化学气相沉积金刚石薄膜的附着力。
机译:Ni与金刚石在高温水蒸气中的热化学反应进行各向异性金刚石刻蚀
机译:金刚石薄膜应用的特殊问题。金刚石均态膜的表面结构。
机译:化学气相沉积金刚石薄膜的偏振拉曼光谱
机译:无正柱的直流等离子体辅助化学气相沉积装置,由此在没有正柱和金刚石薄层的情况下沉积材料的方法
机译:微波等离子体化学气相沉积反应器和沉积多晶金刚石薄膜的方法
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