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【2h】

General Cause of Sheath Instability Identified for Low Collisionality Plasmas in Devices with Secondary Electron Emission

机译：具有二次电子发射的低碰撞等离子体的鞘不稳定性的一般原因

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M. D. Campanell; A. V. Khrabrov; I. D. Kaganovich;
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年度 2012
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1. General Cause of Sheath Instability Identified for Low Collisionality Plasmas in Devices with Secondary Electron Emission [J] . M. D. Campanell, A. V. Khrabrov, I. D. Kaganovich Physical review letters . 2012,第23期

机译：确定具有二次电子发射器件的低碰撞等离子体的鞘层不稳定性的一般原因
2. Effect of asymmetric secondary emission in bounded low-collisional E × B plasma on sheath and plasma properties [J] . Hongyue Wang, Michael D Campanell, Igor D Kaganovich, Journal of Physics, D. Applied Physics: A Europhysics Journal . 2014,第40期

机译：有界低碰撞E×B等离子体中的不对称二次发射对鞘和等离子体性能的影响
3. Breakdown of a Space Charge Limited Regime of a Sheath in a Weakly Collisional Plasma Bounded by Walls with Secondary Electron Emission [J] . D. Sydorenko, I. Kaganovich, Y. Raitses, Physical review letters . 2009,第14期

机译：弱电子碰撞壁包围的弱碰撞等离子体中的鞘的空间电荷受限机制的分解
4. Sheath Edge Conditions for Instability in the Plasma Boundary in Low-pressure Electronegative Plasmas [C] . Akihiro Kono International Conference on Phenomena in Ionized Gases(ICPIG 2003) vol.2; 20030715-20; Greifswald(DE) . 2003

机译：低压电负性等离子体中等离子体边界不稳定的护套边缘条件
5. The Effects of Space-Charge Limited Electron Emission on the Plasma Sheath. [D] . Sheehan, J. P. 2012

机译：空间电荷受限电子发射对等离子体鞘的影响。
6. Roughness Evolution and Charging in Plasma-Based Surface Engineering of Polymeric Substrates: The Effects of Ion Reflection and Secondary Electron Emission [O] . George Memos, Elefterios Lidorikis, George Kokkoris 2018

机译：聚合物基底基于等离子体的表面工程中的粗糙度演变和带电：离子反射和二次电子发射的影响
7. General Cause of Sheath Instability Identified for Low Collisionality Plasma in Devices with Secondary Electron Emission [O] . M.C. Campanell, A. Khrabrov and I Kaganovich 2012

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