机译:等离子体压缩化学气相沉积制备立方晶氮化硼薄膜中残余压缩应力引起的六方氮化硼红外吸收频移
机译:等离子体压缩化学气相沉积制备立方晶氮化硼薄膜中残余压缩应力引起的六方氮化硼红外吸收频移
机译:通过磁增强感应耦合射频等离子体化学气相沉积减少立方氮化硼薄膜的偏置合成
机译:等离子体增强化学气相沉积法原位S掺杂立方氮化硼薄膜
机译:薄膜立方氮化硼的离子辅助化学气相沉积。
机译:通过化学气相沉积可控合成原子层状六方氮化硼
机译:通过Helicon波等离子体增强化学气相沉积的立方硼氮化物薄膜的制备
机译:离子束沉积立方氮化硼作为硼嗪的硬质涂层。阶段1