首页> 外文OA文献 >In situ Analysis of the EUV Resist Pattern Formation during the Resist Dissolution Process

【2h】

In situ Analysis of the EUV Resist Pattern Formation during the Resist Dissolution Process

机译：抗蚀剂溶出过程中EUV抗蚀剂图案形成的原位分析

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Jullius Joseph Santillan; Toshiro Itani;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2013
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. In situ Analysis of the EUV Resist Pattern Formation during the Resist Dissolution Process [J] . Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani Journal of Photopolymer Science and Technology . 2013,第5期

机译：抗蚀剂溶解过程中EUV抗蚀剂图案形成的原位分析
2. In situ Analysis of the EUV Resist Pattern Formation during the Resist Dissolution Process [J] . Jullius Joseph Santillan, Toshiro Itani Journal of Photopolymer Science and Technology . 2013,第5期

机译：抗蚀剂溶解过程中EUV抗蚀剂图案形成的原位分析
3. In situ analysis of negative-tone resist pattern formation using organic-solvent-based developer process [J] . Julius Joseph Santillan, Keisaku Yamada, Toshiro Itani _Applied Physics Express . 2014,第1期

机译：使用基于有机溶剂的显影剂工艺原位分析负型抗蚀剂图案
4. The effect of resist dissolution process on pattern formation variability: an in situ analysis using high speed atomic force microscopy [C] . Julius Joseph Santillan, Motoharu Shichiri, Toshiro Itani Advances in Patterning Materials and Processes XXXII . 2015

机译：抗蚀剂溶解过程对图案形成变异性的影响：使用高速原子力显微镜的原位分析
5. Optimum acquisition and processing parameters for multichannel analysis of surface waves using 3 D electrical resistivity tomography as control. [D] . Nwafor, Uchenna Chibuzo. 2015

机译：使用3D电阻层析成像作为控制，对表面波进行多通道分析的最佳采集和处理参数。
6. Resistive switching of Au/ZnO/Au resistive memory: an in situ observation of conductive bridge formation [O] . Chung-Nan Peng, Chun-Wen Wang, Tsung-Cheng Chan, 2012

机译：Au / ZnO / Au电阻记忆的电阻切换：导电桥形成的原位观察
7. Metal Sensitizer in Chemically Amplified EUV Resist: a Study of Sensitivity Enhancement and Dissolution [O] . Jing Jiang, Danilo De Simone, Geert Vandenberghe 2017

机译：化学扩增的EUV抗蚀剂的金属敏化剂：敏感性增强和溶解研究

In situ Analysis of the EUV Resist Pattern Formation during the Resist Dissolution Process

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅