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机译:追求EUV抗蚀剂较低的临界尺寸均匀性
James Thackeray; James Cameron; Vipul Jain; Paul LaBeaume; Suzanne Coley; Owendi Ongayi; Mike Wagner; Aaron Rachford; John Biafore;
机译:追求EUV抵抗较低的临界尺寸均匀性
机译:光刻胶抗蚀剂线宽粗糙度和临界尺寸均匀性的随机模拟
机译:EUV化学增强型抗蚀剂的分辨率,灵敏度和临界尺寸均匀性方面的进展
机译:微光刻集群中温度和临界尺寸均匀性的表征和改进:一项分析和实验研究。
机译:装有金属谐振器的三维电阻超材料吸收器用于增强低频吸收
机译:二维临界磁场的下临界磁场理论 超导薄膜在非均匀场中
机译:利用相同的能力来改善抗蚀剂图案的临界尺寸均匀性的抗蚀剂组合物和制造抗蚀剂图案的方法
机译:包括透射率调节图案的光罩和调节光罩透射率的方法,能够通过将图案的临界尺寸调节为所需的方向来改善临界尺寸的均匀性
机译:利用抗蚀剂烘烤板模拟器优化临界尺寸均匀性
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