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【2h】

Double-Decker Silsesquioxane-containing Oligomers for Sub-10 nm Scale Fabricating Materials

机译：含双层硅氧烷氧烷的低聚物，用于亚10 nm刻度制造材料

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Lei Wang; Teruaki Hayakawa; Kazuhiro Yoshida;
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年度 2014
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