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【2h】

Photoluminescence enhancement of silicon quantum dot monolayer by plasmonic substrate fabricated by nano-imprint lithography

机译：通过纳米压印光刻制造的等离子体衬底的光致发光提高硅量子点单层

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作者
Hiroto Yanagawa; Asuka Inoue; Hiroshi Sugimoto; Masahiko Shioi; Minoru Fujii;
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年度 2017
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1. Photoluminescence enhancement of silicon quantum dot monolayer by plasmonic substrate fabricated by nano-imprint lithography [J] . Hiroto Yanagawa, Asuka Inoue, Hiroshi Sugimoto, Journal of Applied Physics . 2017,第22期

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