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机译:解决方案加工高性能ZnO纳米FET,由直接写入电子束光刻的自上而下途径制造
Nikhil Tiwale; Satyaprasad P. Senanayak; Juan Rubio‐Lara; Abhinav Prasad; Atif Aziz; Yury Alaverdyan; Mark E. Welland;
机译:基于直接电子束光刻技术的金纳米粒子阵列电整流器
机译:通过直接写入电子束和双层纳米压印光刻技术制造的红外频率选择表面的比较
机译:反射电子束光刻:使用反射电子束光刻概念的无掩模电子束直接写入光刻方法
机译:直接写入亚100纳米电子束光刻技术在SOI上制造横向双极晶体管
机译:多电子束直接写入光刻系统的无损电路布局图像压缩算法。
机译:电子束光刻技术精确订购TiO2纳米线气体传感器的传感性能
机译:直接写电子束和双层纳米压印石标制造的红外频率选择性的比较
机译:使用通过直接写电子束光刻形成的亚微米硅化物结构来制造用于极端紫外线和深紫外线光刻的掩模的方法
机译:利用直接写电子束光刻技术形成的亚微米硅化物结构制造极紫外和深紫外光刻技术的面罩的方法
机译:用于直接写入电子光刻设备的微电子电子发射器件,具有绝缘层,该绝缘层的具有形成纳米源的开口以发射二次电子,其中开口的数量小于微电子源的数量。
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