Progress in Spin-on Hard Mask Materials for Advanced Lithography

机译：用于高级光刻的旋转硬膜材料的进展

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Munirathna Padmanaban; JoonYeon Cho; Takanori Kudo; Dalil Rahman; Huirong Yao; Douglas McKenzie; Alberto Dioses; Salem Mullen; Elizabeth Wolfer; Kazuma Yamamoto; Yi Cao; YoungJun Her;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2014
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Progress in Spin-on Hard Mask Materials for Advanced Lithography [J] . Munirathna Padmanaban, JoonYeon Cho, Takanori Kudo Journal of Photopolymer Science and Technology . 2014,第4期

机译：先进光刻技术的旋涂硬掩模材料研究进展
2. Progress in Spin-on Hard Mask Materials for Advanced Lithography [J] . Munirathna Padmanaban, JoonYeon Cho, Takanori Kudo, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2014,第4期

机译：先进光刻技术的旋涂硬掩模材料研究进展
3. Evaluation of direct patternable inorganic spin-on hard mask materials using electron beam lithography [J] . Xaver Thrun, Kang-Hoon Choi, Martin Freitag, Microelectronic Engineering . 2012,第OCTa期

机译：使用电子束光刻技术评估可直接图案化的无机旋涂硬掩模材料
4. Development of spin-on hard mask materials under resist in nano imprint lithography [C] . Satoshi Takei, Tsuyoshi Ogawa, Ryan Deschner, Conference on advances in resist materials and processing technology XXVII . 2010

机译：纳米压印光刻技术在抗蚀剂下旋涂硬掩模材料的开发
5. Design and study of advanced photoresist materials: Positive tone photoresists with reduced environmental impact and materials for 157 nm lithography. [D] . Yamada, Shintaro. 2000

机译：高级光刻胶材料的设计和研究：减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
6. Recent progress in advanced optical materials based on gadolinium aluminate garnet (Gd3Al5O12) [O] . Ji-Guang Li, Yoshio Sakka 2015

机译：基于铝酸石榴石（Gd3Al5O12）的先进光学材料的最新进展
7. Novel Spin-on Carbon Hard Mask with Hardening by Ion Implantation [O] . Takeo Ishibashi, Yoshiharu Ono, Atsumi Yamaguchi, 2007

机译：新型旋碳硬质掩模，通过离子注入硬化
8. Approaches to Advanced Materials for Photorefractive Applications and Radiation Hardening [R] . Marder, S. R. 2002

机译：用于光折变应用和辐射硬化的先进材料的方法

Progress in Spin-on Hard Mask Materials for Advanced Lithography

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅