机译:使用MgO / Si Top DBR和GAINASP / INP底部DBR设计高速1310nm Algainas / AlGainas VCSEL
机译:使用MgO / Si顶部DBR和GaInAsP / InP底部DBR设计高速1310nm AlGaInAs / AlGaInAs VCSEL
机译:使用有源区中的GaInAsN / AlGaInAs和顶部和底部DBR中的AlGaAsSb / AlAsSb设计全外延1,550 nm腔内VCSEL
机译:通过MOCVD在具有晶格匹配的AlGaInAs-InP DBR的InP上长波长垂直腔表面发射激光器
机译:使用GaInAs / GaInP MQW和AlGaInAs / InP DBR的腔内底部发射1325 nm VCSEL,用于外延制造
机译:短腔DBR激光器使用量子阱混合技术与高速电吸收调制器集成在一起。
机译:集成双波长VCSEL底部使用电泵浦的GaInAs / AlGaAsAs 980 nm腔顶部使用光泵浦的GaInAs / AlGaInAs 1550 nm腔
机译:n型调制掺杂势垒和线性梯度成分GaInAsP中间层对1.3μmAlGaInAs / AlGaInAs应变补偿多量子阱激光二极管的影响