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机译:中子聚焦椭圆镜基板通过数值控制的局部湿法蚀刻
Kazuya YAMAMURA;
机译:椭圆形中子聚焦镜的数控局部湿法刻蚀
机译:一维数控局部湿法刻蚀椭圆形硬X射线聚焦镜
机译:局部湿法刻蚀制备超精密毫米厚椭圆形中子聚焦镜基板
机译:通过聚焦离子束诱导的选择性混合和湿法化学蚀刻形成光通道波导:设计,制造和表征。
机译:基于四个变形镜的可变数值孔径聚焦光学系统的近衍射极限X射线聚焦
机译:超X射线纳米聚焦纳米聚焦的超薄椭圆镜的制造及聚焦性能评价
机译:聚焦离子束注入和湿法刻蚀制备可见光致发光si微结构
机译:用于被配置为在镜面上显示用户的镜像的镜组件的自适应照明系统,镜布置,虚拟镜布置,用于控制组件的光源的方法被配置为显示镜的镜图像的自适应照明系统镜配置镜组件镜面上的用户,用于控制虚拟镜的方法以及控制用于镜组件的自适应照明系统的光源的计算机程序产品
机译:半导体器件中数字控制的局部干法刻蚀硅晶圆的平面化方法
机译:具有SiN层和Si层的基板的湿蚀刻组合物以及使用该湿蚀刻组合物的湿蚀刻方法
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