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Back Cover: Stabilization of Copper Catalysts for Liquid-Phase Reactions by Atomic Layer Deposition (Angew. Chem. Int. Ed. 51/2013)

机译：后盖：原子层沉积稳定铜催化剂用于液相反应（Angew.Chem.Int.ded.51 / 2013）

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Brandon J. ONeill; David H. K. Jackson; Anthony J. Crisci; Carrie A. Farberow; Fengyuan Shi; Ana C. Alba-Rubio; Junling Lu; Paul J. Dietrich; Xiangkui Gu; Christopher L. Marshall; Peter C. Stair; Jeffrey W. Elam; Jeffrey T. Miller; Fabio H. Ribeiro; Paul M. Voyles; Jeffrey Greeley; Manos Mavrikakis; Susannah L. Scott; Thomas F. Kuech; James A. Dumesic;
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年度 2013
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机译：Rücktitelbild：用原子层沉积稳定铜催化剂（Angew.Chem.51 / 2013）

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