机译:特高压溅射制备SmCo_5垂直磁化薄膜的磁性能和畴结构
机译:用于Co-Cr-Ta垂直磁记录介质的Pt / Ti复合底层和Pt中间层
机译:PT / TI复合底层和PT界面用于CO-CR-TA垂直磁记录介质
机译:用于CO-CR-TA垂直磁记录层的超薄无定形Si籽晶层
机译:垂直磁记录和热辅助磁记录中的头盘界面的摩擦性能
机译:Ru中间层的斜入射溅射用于垂直记录介质中晶间交换的解耦
机译:ECR-溅射沉积的CO-CR-TA垂直记录盘
机译:srTiO(sub 3)(100)上的外延pb(Zr(sub x)Ti(sub 1(minus)x))O(sub 3)/ srRuO(sub 3)(x = 0,0.35,0.65)多层薄膜通过mOCVD和RF溅射制备mgO(100)和mgO(100)