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【2h】

Mass spectrometer-wall probe diagnostic of Ar discharges containing SF6 and/or O2: Reactive Ions in Etching Plasmas

机译：质谱仪壁探针概述含有SF6和/或O2的AR放电：蚀刻等离子体中的反应离子

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H. G. Lergon; M. Venugopalan; K. G. M�ller;
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年度 1985
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