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机译:基于原子尺度机制的HFO2和ZrO2的热原子层蚀刻自限温窗
机译:使用Sn(acac)(2)和HF的顺序自限热反应对HfO2进行原子层蚀刻
机译:使用顺序氟化氢和二甲基氨基氯化二甲烷曝光的Al 2 O 3,HFO 2和ZrO2的热原子层蚀刻
机译:使用顺序自限表面反应的热原子层蚀刻
机译:用于器件应用的热原子层沉积和热原子层蚀刻
机译:不同退火温度下硅上热原子层沉积Al2O3膜的钝化机理
机译:HFO2和ZrO2热原子层蚀刻中HF脉冲的机制:第一个原理研究
机译:HfO2 / ZrO2薄膜作为门介电体的原子层沉积纳米
机译:原子层沉积的HfO2 / ZrO2薄膜纳米层作为栅极电介质
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