机译:Si {110}晶片表面上由Si {111}平面形成的角的刻蚀特性的新模型
机译:通过垂直{111}侧壁形成U形金刚石沟槽,通过钻石(110)表面的各向异性蚀刻
机译:通过(110)硅片的角补偿各向异性刻蚀制造的自诊断高密度硅微探针阵列
机译:通过对(110)和(111)硅片进行各向异性湿法蚀刻制成的低压光开关
机译:在半导体上产生太阳能:在新型铜铁矿AgRhO2和具有{110}面的p-GaP(111)表面上通过光蚀刻进行CO 2还原后,光辅助的H 2析出
机译:通过使用自掩膜蚀刻技术在晶圆表面形成纳米级金字塔提高多晶硅晶圆太阳能电池效率
机译:电子回旋谐振增强等离子体化学气相沉积的SiO Sub 2,Si Sub 3,Si Sub 3 N,Si Sub 4和SiO Sub X N Sub X N Sub X N Sub X N Sub x N Sub X N Sub X N Sub X N Sub X N Sub X N Sub X N Sub X N 亚y的表征及建模