机译:通过热退火对下一代光刻进行化学图案的聚苯乙烯(碳酸亚丙酯)的定向自组装
机译:通过热退火的化学图案上的高Chi Poly(苯乙烯-A1-(乳酸-At-(乳酸 - Alt-乙醇酸))嵌段共聚物的定向自组装
机译:通过溶剂退火在低于10nm纳米制造的化学图案上指导三嵌段共聚物的自组装
机译:使用ZnO-sol和热退火的纳米压印光刻技术直接对ZnO进行纳米构图
机译:有位比特图案媒体光刻的定向自组装图案的线频加倍
机译:嵌段共聚物和三元嵌段共聚物/均聚物共混物在化学图案化表面上的定向自组装成面向装置的几何形状。
机译:区域退火和图案模板法在二嵌段共聚物薄膜中定向自组装的数值模拟
机译:通过溶剂退火的亚10 -NM纳米制剂的化学模式的三嵌段共聚物的定向自组装