机译:阴影面罩光刻技术自组装获得的不可克隆的等离子安全标签
机译:计算机视觉可解放,不可繁文和多彩安全标签的等离子体表面上的协调聚合物的自组装
机译:不可分割的等离子体安全标签
机译:快速严格的掩模谱模型,用于仿真和分析EUV光刻中的掩模阴影效应
机译:探索物理不可克隆的功能以在IoT中实现高效的硬件辅助安全性
机译:基于纳米级聚合物荫罩的模板纳米光刻技术:走向有机纳米电子学
机译:光致胶体组件:通用基材上胶体等离子体纳米粒子的快速和直接组装光热对流光刻(小45/2018)
机译:用于亚100nm通道长度晶体管的X射线光刻技术,采用常规光刻,各向异性蚀刻和斜阴影制作的掩模