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Effect of Molecular Weights of 193nm Resist Polymers on the Negative Tone Development Process

机译：193nm抗蚀剂聚合物分子量对阴性发育过程的影响

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Young C. Bae; Seung-Hyun Lee; Rosemary Bell; Jong Keun Park; Thomas Cardolaccia; Yi LIu; Jibin Sun; Cecily Andes; Young Seok Kim; Georgee G. Barclay;
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年度 2011
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