AI写作工具
文献服务
退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:用三甲胺硼烷作为还原剂的化学钯电镀质量平衡与沉积机理。
Hidemi NAWAFUNE; Yuuki KAMIURA; Shozo MIZUMOTO; Masaki HAGA; Ei UCHIDA;
机译:以L-半胱氨酸为还原剂的化学镀金及其沉积机理
机译:以甲酸为还原剂的无电PD镀层的沉积机理
机译:TiO_2纳米管阵列上的钯膜通过光催化沉积和改进的化学镀工艺相结合覆盖钛表面及其氢渗透性
机译:CE对钯沉积化无电镀的影响
机译:在肼溶液中在不锈钢基材上化学镀钯:镀液参数,沉积机理和沉积形态之间关系的研究。
机译:使用CO3 + / CO2 +氧化还原耦合作为还原剂的化学铂沉积
机译:用二甲胺硼烷作为还原剂电镀Ni-B合金电镀的质量平衡和沉积机理。
机译:无电钯镀液,无电钯镀液的制造方法
机译:对应于在无铅电镀溶液组成的印刷电路板的铜表面上的无电镀钯的预处理工艺的镀金方法和钯金的化学镀方法
机译:用于钯化学镀的镀浴组合物和钯化学镀的方法
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。