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机译:通过电弧离子镀层制备的非晶碳氮化物薄膜的磨损电阻率。
Hiroyuki SUGIMURA; Nobuhiro TAJIMA; Kazuki KAWATA; Osamu TAKAI;
机译:电弧离子镀制备的非晶氮化碳薄膜的场发射特性
机译:屏蔽电弧离子镀制备非晶氮化碳薄膜的纳米压痕研究
机译:氙气氯化物脉冲激光沉积樟脑碳前驱体制备非晶态氮化碳薄膜的结构性能研究
机译:屏蔽电弧离子电镀制备的无定形碳和氮化碳薄膜的纳米力学性能
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:掺b非晶碳基薄膜:通过低温RF-PEMOCVD制备的光子材料
机译:中频,高功率脉冲和直流磁控溅射在低温生长低摩擦耐磨无定形氮化碳薄膜
机译:非晶碳氮化物膜的形成方法,非晶碳氮化物膜,多层抗蚀剂膜,半导体装置的制造方法以及存储控制程序的存储介质
机译:在控制程序中存储的非晶碳氮化物膜的形成方法,非晶碳氮化物膜,多层电阻膜,制造半导体装置的方法以及存储介质
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