Development of Dry Film Type Solder Resist for Tape CSP.

机译：带CSP的干膜型焊料抗蚀剂的研制。

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Ryoichi OKADA; Hitoshi KAWAGUCHI; Ryota KIMURA; Takeshi HOSOMI; Shinichiro ITOH;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2001
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. New Solder Resist Ink, Dry Film to Replace Cover-Iay Film [J] . Japan Chemical Week Group Japan Chemical Week . 2001,第2126期

机译：新型阻焊油墨，干膜代替覆盖层膜
2. A new type of dry-developed positive deep UV resist using polymer Langmuir-Blodgett films [J] . Guo YZ., Miyashita T., Feng F. Chemistry Letters . 1998,第12期

机译：使用聚合物Langmuir-Blodgett膜的新型干法开发的正性深紫外线抗蚀剂
3. Development of 440-V 800-A Resistive-Type Modular Superconducting Fault Current Limiter With YBCO Tapes [J] . Dixit M., Kedia S., Kulkarni S., Applied Superconductivity, IEEE Transactions on . 2012,第5期

机译：使用YBCO胶带开发440-V 800-A电阻型模块化超导故障限流器
4. Development of negative profile of dry film resist for metal lift off process [C] . Chew M., Soon Wee Ho, Su N., Electronics Packaging Technology Conference, 2009. EPTC '09 . 2009

机译：用于金属剥离工艺的干膜抗蚀剂负型面的开发
5. Fluidic sensor devices utilizing dry film resist as main structural materials [D] . Gong, Sijia. 2013

机译：利用干膜抗蚀剂作为主要结构材料的流体传感器装置
6. Dry Lithography of Large-Area Thin-Film Organic Semiconductors Using Frozen CO2 Resists [O] . Matthias E Bahlke, Hiroshi A Mendoza, Daniel T Ashall, -1

机译：使用冻结的CO2抗蚀剂进行大面积薄膜有机半导体的干法光刻
7. Surface Modification of Solder Resist and Dry Film Resist by 60Hz Nonequilibrium Atmospheric Pressure Plasma Using O2/N2 Gas [O] . Yoshiyuki IWATA, Hajime SAKAMOTO, Hirotoshi INUI, 2011

机译：使用O2 / N2气体的60Hz非醌大气压等离子体的抗蚀剂和干膜抗蚀剂的表面改性
8. Plasma-Deposited Organosilicon Thin Films as Dry Resists for Deep UltravioletLithography [R] . Horn, M. W., Pang, S. W., Rothschild, M. 1990

机译：等离子沉积有机硅薄膜作为深紫外光刻的干抗蚀剂

Development of Dry Film Type Solder Resist for Tape CSP.

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅