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机译:气相中的硅辅助化学蚀刻:X射线光学器件的纳米制作平台
Lucia Romano; Matias Kagias; Joan Vila-Comamala; Konstantins Jefimovs; Li-Ting Tseng; Vitaliy A. Guzenko; Marco Stampanoni;
机译:气相中硅的金属辅助化学蚀刻:X射线光学器件的纳米制作平台
机译:在硅上进行3D高纵横比微细加工和纳米加工的均匀金属辅助化学蚀刻中的电荷传输。
机译:通过透明角沉积和金属辅助化学蚀刻工艺制备硅纳米线平台上的DNA杂交
机译:用金属辅助化学蚀刻和电化学蚀刻形成硅中多孔结构的形成
机译:作为3D纳米制造平台的硅金属辅助化学蚀刻的开发。
机译:金属辅助化学刻蚀对X射线光学器件的微细加工
机译:硅的钌辅助化学蚀刻:实现CMOS兼容的3D半导体器件纳米制作
机译:利用金属辅助化学刻蚀法制造垂直型纳米结构的方法,制造该方法的垂直硅纳米结构以及包括垂直型硅纳米结构的装置
机译:金属辅助化学刻蚀,可制造高纵横比和直形硅纳米柱阵列以进行排序
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