机译:基质温度效应通过磁控溅射沉积制备的(Si,Al)/ A-C:H膜的微观结构和性质
机译:衬底温度对磁控溅射沉积(Si,Al)/ a-C:H薄膜的组织和性能的影响
机译:磁控溅射WS2 / Fe / A-C / Fe多层膜的微观结构和摩擦学行为,各种沉积温度
机译:射频不平衡磁控溅射沉积制备的a-C:F薄膜的力学性能与化学基团的关系
机译:沉积退火温度对磁控溅射型负金属离子源制备的ITO薄膜光电性能的影响
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:基于直流磁控溅射沉积的al薄膜性能取决于衬底温度