机译:刮削层(溶胶)在ASDEX升级中L,I和H模式等离子体的溶胶和基座梯度之间的电力宽度缩放和相关性
机译:ASDEX升级的L,I和H模式等离子体的刮削层(溶胶)电源宽度缩放和溶胶和基座梯度之间的相关性
机译:湍流驱动的ASDEX升级H型放电中的近SOL功率宽度变宽
机译:从启发式漂移模型中缩放溶胶/分离器Chi(垂直于),以获得电源刮擦层宽度
机译:ASDEX升级磁性扰动对高碰撞等离子体中基座,溶胶和偏转器的影响
机译:从启发式漂移模型中缩放SOL /SECITADRIXχ⊥,从而为电源刮擦层宽度