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【2h】

High‐rate, low‐temperature deposition of multifunctional nano‐crystalline silicon nitride films

机译：多功能纳米晶体氮化硅膜的高速率，低温沉积

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作者
Jae‐Dam Hwang; Kyoung‐Min Lee; Ki‐Su Keum; Youn‐Jin Lee; Wan‐Shick Hong;
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年度 2010
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1. High‐rate, low‐temperature deposition of multifunctional nano‐crystalline silicon nitride films [J] . Jae‐Dam Hwang, Kyoung‐Min Lee, Ki‐Su Keum, Journal of information display . 2010,第3期

机译：多功能，纳米氮化硅薄膜的高速低温沉积
2. Low-temperature deposition of nanocrystalline diamond films on silicon nitride substrates using distributed antenna array PECVD system [J] . Benoit Baudrillart, Fabien Benedic, Amel S. Melouani, Physica status solidi . 2016,第10期

机译：使用分布式天线阵列PECVD系统在氮化硅衬底上低温沉积纳米晶金刚石膜
3. High rate (～3 nm/s) deposition of dense silicon nitride films at low substrate temperatures (< 150℃) using the expanding thermal plasma and substrate biasing [J] . F.J.H. van Assche, W.M.M. Kessels, R. Vangheluwe, Thin Solid Films . 2005,第1a2期

机译：使用扩展的热等离子体和衬底偏置，在低衬底温度（<150℃）下高速率（〜3 nm / s）的致密氮化硅膜沉积
4. Hollow-cathode plasma-assisted atomic layer deposition: A novel route for low-temperature synthesis of crystalline III-nitride thin films and nanostructures [C] . Biyikli Necmi, Ozgit-Akgun Cagla, Goldenberg Eda, Institute of Electrical and Electronics Engineers International Conference on Electronics and Nanotechnology . 2015

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5. The chemical vapor deposition of polycrystalline silicon nitride films at low temperatures. [D] . Lauten, Frederick Scott. 1996

机译：在低温下化学气相沉积多晶硅氮化硅膜。
6. Investigations on the Role of N2:(N2 + CH4) Ratio on the Growth of Hydrophobic Nanostructured Hydrogenated Carbon Nitride Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition at Low Temperature [O] . Noor Hamizah Khanis, Richard Ritikos, Shafarina Azlinda Ahmad Kamal, 2017

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7. Hollow-cathode plasma-assisted atomic layer deposition: A novel route for low-temperature synthesis of crystalline III-nitride thin films and nanostructures [O] . Biyikli, N., Ozgit-Akgun, C., Goldenberg, E., 2015

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