机译:准分子激光照射技术提高磁控溅射柔性透明导电膜的特性
机译:磁控溅射在聚合物基底上室温沉积柔性透明导电掺杂Ga的ZnO薄膜
机译:直流磁控溅射在柔性基板上沉积的透明导电ZnO:Al薄膜
机译:Nb和Ta共掺杂TiO2透明导电薄膜通过磁控溅射:制造,结构和特性
机译:生长温度对RF磁控溅射获得的透明和导电NIO薄膜性能的影响
机译:直流反应磁控溅射沉积的新型薄膜透明导电氧化物。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:错误:“磁控溅射靶侵蚀区域对透明导电ZnO多晶膜结构和电学空间分布的影响”J。苹果。物理。 124,065304(2018)